半導體設備內的Chamber（腔室）內的氣體控制其實是一門既基礎又重要的學問，晶圓良率表現好壞與否，各類氣體控制與動力是相當重要的關鍵。然而，在設備內的閥門控制上，除了流量、壓力等數字上的表現，懸浮微粒的多寡與否，也會對晶圓良率帶來相當大的影響。因此，如何又快又準地控制閥門，就成了相當重要的關鍵。

本集重點：
1. 台美韓半導體業者皆需壓電技術精準控制閥門
2. 不僅用在閥門，先進封裝場域也適用
3. 收購AI技術公司，為半導體設備零組件導入預測性維護

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